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    工作原理
           微波激发等离子体:通过微波电磁场(频率通常为2.45 GHz)将气体(如氧气、氩气、氮气等)电离,形成高能等离子体。
           表面反应:等离子体中的活性粒子(离子、电子、自由基等)与材料表面污染物发生物理轰击或化学反应,分解有机物、氧化物等,实现清洁或改性。
    结构组成

           微波发生器:产生高频微波,核心部件之一。
           真空腔体:维持低压环境,确保等离子体稳定生成。
           供气系统:控制反应气体种类和流量。
           样品台:可旋转或移动,确保处理均匀。
           控制系统:自动化操作,调节功率、压力、时间等参数。
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    应用领域
           半导体制造:用于芯片制造过程中的光刻胶去除、晶圆表面清洗、刻蚀等工艺,提高芯片的制造精度和性能。
           电子器件制造:对电子元件如电路板、电子封装材料等进行表面清洗和活化,增强焊接效果,提高电子器件的可靠性和稳定性。
           光学领域:清洗光学镜片、光学薄膜等表面的油污、灰尘和有机物,提高光学元件的透光率和光学性能,同时可用于光学元件的表面改性,改善其抗反射、抗污染等特性。
           生物医学:对生物材料、医疗器械等进行表面处理,如提高生物材料的生物相容性、对医疗器械表面进行消毒和活化,有利于细胞的粘附和生长,以及后续的涂层和修饰等。
           航空航天:处理航空航天材料表面,如去除表面氧化层、增强涂层附着力等,提高材料的性能和使用寿命,确保航空航天部件的可靠性和安全性。
    晶圆产品
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